以添加了选择性发射极(SE)工艺的“SE+PERC”单晶硅太阳电池为研究对象，通过改变 SE激光掺杂处理时的激光功率、激光频率和激光扫描速度这3个参数，研究了不同激光参数对硅片的方阻差值、激光光斑形貌、硅片绒面微观结构，以及“SE+PERC”单晶硅太阳电池电性能等方面的影响。研究结果表明:澛光光斑重叠率随着激光频率的增大而增大，随着激光扫描速度的增大而减小，与激光功率无关，激光功率越大、激光频率越小或激光扫描速度越小，硅片的方阳差值越大，对硅片绒面金字塔结构的损伤越大。因此，
“SE+PERC”单品硅太阳电池生产线需结合自身情况，在SE激光掺杂处理时优配合话的激光功率、激光频率和激光扫描速度等激光参数。研究结果对今后“SE+PERC”单晶硅太阳电池生产线选择合适的SE激光参数具有一定的参考价值。
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