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技术标准激光清洗硅片表面颗粒沾污的试验研究

随着超大规模集成电路的发展硅片尺寸将不断增大刻线宽度从亚微米向纳米级发展。基体表面的亚微米级污物足以导致芯片的缺陷产生因此对半导体硅片表面质量的要求也越来越严格。传统的清洗方法如 R以清洗、机械刷片清洗、超声波清洗等或者不能有效的去除微米亚微米级颗粒或者即使能够去除但会对基体表面造成一定程度的损伤同时大量有毒化学试剂的使用也会对环境造成危害。激光清洗是一种新型的非接触式清洗技术它具有清洗效率高、可灵活选择清洗区域、无环境污染等优点在清洗闭值和损伤闭值之间的能量密度范围内即可满足表面洁净技术的要求又不破坏硅片表面的原始形貌是一种非常具有发展潜力及实用价值的清洗技术

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技术标准光学元件表面的激光清洗技术研究

激光清洗技术是利用激光处理待清洗物体在激光脉冲作用下使污染物从物体表面脱离。由于激光清洗可通过调整激光波长、脉宽、作用时间和作用方式等来适应不同污染物和不同基底的清洗要求因此广泛适用于各种清洗对象并常用于一些特殊功能的清洗解决常规清洗所不能解决的问题。此外与其它清洗技术相比激光清洗具有无污染、效率高、低成本等优点因而研究和应用更加广泛。

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技术标准高性能边缘密封丁基胶于钙钛矿组件封装的应用特点

An electrically insulating, low permeability adhesive 它是一种电气绝缘的，低水汽渗透率的粘合剂

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技术标准高效稳定钙钛矿太阳能电池的组分设计与界面调控

Why is energy always preeminent? When we look at a prioritized list of the top 10 problems, with energy at the top, we can see how energy is the key to solv- ing all of the rest of the problems from water to population:

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技术标准钙钛矿与叠层电池IV测试方法

2003-2009正式进军光伏市场，且成功研发首台AAA太阳模拟器设备；设备正式进入晶科、阿特斯、东方日升等制造型企业公司；设备正式进入中国计量院、中检南方等实验室机构；

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